電子超純水設備，超純水設備
電子超純水設備概述 
    電子行業超純水設備適用于集成電路芯片、單晶硅、顯像管、液晶顯示器、計算機硬盤、線路板等工藝所需的純水和超純水制備.在嚴格執行ISO-9001國際質量體系標準的前提下,采用世界上最先進的反滲透膜元件.壓力容器和高壓泵、配以合理而又高效的前處理設備及后處理設備,使產品出水符合各類電子行業生產標準的超純水.控制系統選用PLC或計算機DCS程序控制,可實現自動起停、加藥及沖洗,自動監測各種運行參數,并可實現運行參數的儲存及打印 廣泛適用于： 半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路 LCD、EL、PDP、TFT、玻殼、顯像管 超純材料和超純化學試劑 光導纖維、光盤。目前，制備超純水的方法通常采用反滲透，去離子或電去離子（EDI）等工藝。在水質要求達10MΩ.cm以上，通常采用不同的工藝進行組合搭配的方法來制取，例如采用反滲透加去離子，反滲透加EDI等。
電子工業用超純水的應用領域 
   1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
   2、超純材料和超純化學試劑；
   3、實驗室和中試車間；
   4、汽車、家電表面拋光處理；
   5、光電產品；
   6、其他高科技精微產品；
電子超純水設備的工藝流程 
電子行業超純水的工藝大致分成以下幾種：
  1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
  2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點
  3、采用反滲透水處理設備與電去離子（EDI）設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置  精密過濾器→用水點 
電子超純水的工藝比較 
   設備通常由多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構成前期預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）系統等構成主要設備系統。水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
   目前制備電子工業用超純水的工藝基本上是以上三種，現將他們的優缺點分別列于下面：
  1、第一種采用離子交換樹脂其優點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環境有一定的破壞。
  2、第二種采用反滲透作為預處理再配上離子交換設備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設備再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環境還是有一定的破壞性。
  3、第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水最經濟，最環保用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續制取超純水，對環境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。
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